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半導体産業用のガスC3F8

半導体業界では、オクタフルオロプロパンC3F8ガスと酸素の混合物がプラズマエッチング材料として使用され、シリコンウェーハの金属マトリックスと選択的に反応します。

説明

ガスC3F8について Tel:+86-0592-5803997

化学式C3F8でも知られているオクタフルオロプロパンは、主に電気産業の絶縁特性に使用されるフルオロカーボンガスです。これは効果的な気体誘電媒体であり、機器のサイズを最小限に抑えながら高い電気断熱を提供します。

 

CAS NO。:76-19-7

その他の名前:Octafluoropropane、Freon 218、RC 218、R218

グレード標準:電子グレード、産業グレード

c3f8 gas
 
C3F8ガスのアプリケーション

 

 半導体業界で:

オクタフルオロプロパンガスC3F8と酸素の混合物は、プラズマエッチング材料として使用され、シリコンウェーハの金属マトリックスと選択的に反応します。エレクトロニクス業界の急速な発展に伴い、高純度のオクタフルオロプロパンの需要が増加しており、エッチング精度の要件がますます洗練されているため、純度の要件もますます高くなっています。高純度のオクタフルオロプロパン電子ガスの純度は99.999%を超えています。

C3F8 Application 2

 

 医療分野で:

医療分野でのオクタフルオロプロパンC3F8ガスの使用が新たに開発されました。主に音響超音波血管造影に使用されます。 Octafluoropropane Microbubblesは、音波を効果的に反映し、超音波信号の後方散乱を強化することができます。血管に十分な滞留時間があり、血液細胞トレーサーとして使用して、血行動態を妨げることなく臓器の血液灌流を反映することができます。

 

C3F8は、眼科手術で使用される不活性ガスでもあり、眼内圧を安定化し、創傷治癒を促進する効果があります。

C3F8 Application

 産業分野:

C3F8は、熱力学的特性のために冷凍システムで利用され、効率的な冷却性能を提供します。

C3F8 Application 3

 
ガスC3F8の準備プロセス

 

ガスC3F8を準備する主な方法は次のとおりです。

 

1.活性炭と高濃度のフッ素ガスを原材料として使用し、特定の温度条件下で反応器で反応し、粉塵除去、アルカリ洗浄、脱水、その他のプロセスを通じて粗生成物を取得し、蒸留、吸着、脱水、その他のプロセスを通じて高純度の生成物を取得します。

 

2.ヘキサフルオロプロピレンを原料として使用し、添加反応を通じてそれを取得する。

 

3.テトラフルオリド炭素(CF4)などの蛍光炭素ガスの調製の副産物から抽出します。

私たちの利点 Tel:+86-0592-5803997

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フッ素化学およびEuiqpment輸出の20年の経験

 

 

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