Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd. は、ドライエッチングガスジフルオロメタン (R32)|の大手メーカーおよびサプライヤーの 1 つです。中国の半導体製造向けの高純度。ドライエッチングガスジフルオロメタン(R32)をお探しなら|ドライエッチングガス半導体製造用の高純度、当社の工場から競争力のある価格で高品質の製品をご購入ください。お見積りについてはお問い合わせください。

ドライエッチングガスジフルオロメタン (R32) - 製品概要

ドライエッチングはプラズマエッチングとも呼ばれ、高エネルギーのプラズマを使用してウェーハの表面から材料を除去します。{0}プラズマは化学的に反応性のイオンとフリーラジカルで構成されており、これらがウェーハに衝突して材料の分子結合を破壊し、エッチングによって除去されます。ドライエッチング技術には、反応性イオンエッチング（RIE）、プラズマエッチング、イオンエッチングなどがあります。ドライエッチングを使用すると、エッチングプロセスをより適切に制御でき、より高い解像度が得られ、より複雑な構造をエッチングできます。

ドライエッチングガスジフルオロメタン（R32）化学式 CH2F2 としても知られる、- は、半導体エッチングやプラズマエッチングプロセスで広く使用されている高純度ガスです。この高度なエッチングガスは、窒化シリコン (Si3N4)、二酸化シリコン (SiO2)、および半導体デバイスの製造で一般的に使用されるその他の材料のエッチングを含む、半導体製造で複雑なパターンを作成するために不可欠です。

主な機能と利点、技術仕様

ジフルオロメタン (R32) の大手サプライヤーとして、当社は半導体製造工場やその他の産業用途の特定のニーズを満たすよう調整された大量供給と競争力のある価格を提供します。

主な機能と利点:

高純度: 当社のジフルオロメタン (R32) は、通常 99.9% ～ 99.99% の範囲で、半導体産業の厳しい純度要件を満たしています。

広い適用範囲：半導体製造におけるドライエッチングおよびプラズマエッチングプロセスでの使用に最適です。

迅速な対応と納品: サプライチェーン管理の卓越性を重視し、迅速なリードタイムと信頼性の高い納品を保証します。

カスタマイズされたパッケージング: 特定の供給要件に合わせて、使い捨てシリンダー、ISO タンク、バルクパッケージでご利用いただけます。

業界標準への準拠: UN No. 3252 (可燃性ガス) やクラス 2.1 などの世界的な安全および規制基準を満たしています。

技術仕様

型番	R32	外観	無色
脂肪炭化水素の飽和度	アルカン	分子式	CH2F2
分子量	52.02	臨界圧力(MPa)	5.80
沸点（度）	-51.70	密度(30度)	0.958
ODP	0	応用	エアコン用冷媒冷媒R32
GWP	675	パッキング	ディスポーザブルシリンダー/詰め替えシリンダー/ISOタンク
クラス番号	2.1	純度	99.9%~99.99%
アン No.	3252	起源	中国